Inline Magnetron Sputtering mfumo Picha Matukio

Mfumo wa Kunyunyizia wa Magnetron Inline

Maelezo Fupi:

Mfumo wa Inline Magnetron Sputtering ni aina ya utupu wa vifaa vya uwekaji filamu nyembamba ambavyo hufanya kazi kwa madhumuni tofauti.Matumizi ya kawaida ya mstari wetu wa sputtering ikiwa ni pamoja na:

Utengenezaji wa kioo cha alumini

Mipako ya kioo ya ITO
Kioo cha Anti Reflective
Mipako ya mapambo ya chuma cha pua na kioo

Mfumo huu wa mipako unafaa kwa maombi ya mipako ya utupu wa darasa la juu.Inazalisha utendaji thabiti wa kazi ili kuboresha ubora wa filamu za mipako ya utupu.

Tutumie barua pepe

Maelezo ya Bidhaa

Lebo za Bidhaa

Mashine ya mipako ya magnetron ya kunyunyizia ni hasa mipako ya DC (au MF) ya magnetron sputtering inaweza kubadilishwa kwa malengo mbalimbali, kama vile: shaba, titanium, chromium, chuma cha pua, nikeli na nyenzo nyingine za chuma ambazo zinaweza kupakwa kwa kutumia mchakato wa sputtering. inaweza kuboresha kujitoa filamu, reproducibility, msongamano, sare na sifa nyingine.

a.Tabia za msingi na vigezo
b.usawa line muundo inaweza barabara wakati huo huo coated upande mmoja
c.ufanisi wa uzalishaji, kasi ya haraka zaidi ya hadi dakika 1 / mpigo
d.muundo wa msimu, matengenezo rahisi
e.mchovyo mchakato ukomavu, mavuno ya juu
f.Kathodi za sumaku za DC zinaweza kutofautiana kulingana na mahitaji ya mteja
g.mfumo wa utupu una pampu ya mitambo, pampu za mizizi, pampu za kueneza (pampu ya molekuli) Muundo.
h.Ukubwa wa mstari unaweza kutofautiana kulingana na mahitaji ya mteja

1) chumba utupu mwili nyenzo kutumika SUS304, polishing chumba utupu ukuta matibabu, ukuta wa nje mnyunyizio polishing shanga usindikaji.
2) Kutumia valve ya lango la kujitegemea kati ya chumba cha utupu - valve ya flapper kando, inaweza kukatwa kwa ufanisi, kuleta utulivu wa mchakato wa gesi.Kwa sasa kampuni yetu inapitisha muundo wa vali ya flapper, inafunga vizuri zaidi, inadumu zaidi kuliko valve ya sasa ya kawaida ya ndani.
3) Maambukizi hutumia mwongozo wa magnetic, kulinda utulivu wa gari.Kwa kila kasi ya mstari mzima wa uzalishaji kwa kutumia gari la VVVF, kasi ya kukimbia inaweza kubadilishwa.
4) Mfumo wa Udhibiti wa Umeme: Skrini ya Kugusa na udhibiti wa kiotomatiki wa PLC, mazungumzo ya mashine ya mtu kufikia mfumo wa kuonyesha data, vigezo vya kufanya kazi na teknolojia ya kudhibiti.
1) Shinikizo la mwisho la utupu: 6 × 1 0E-4 Pa
2) mzunguko wa wastani wa uzalishaji: kulingana na bidhaa iliyoamuliwa
3) Ukubwa wa mmiliki wa substrate: inaweza kubinafsishwa kulingana na mahitaji ya
4) Usawa wa filamu: ± 3% teknolojia ya hali ya juu ya uwanja wa rununu imeboresha sana utumiaji lengwa
Muundo wa hita uliogawanywa unafaa katika uboreshaji.